先进光刻胶质料化学简介

2020.12.22

投稿:高珊部分:质料科学与工程学院浏览次数:

活动信息

时间: 2020年12月25日 14:10

所在: 校本部J101课堂

报告内容简介:简述先进光刻胶质料(用于芯片制造)的生长历史,,, ,,,重点先容先进光刻胶的质料化学以及企业研发与高校研发的区别。。。。

报告人姓名:毛国平

报告人简介(中文):毛国平博士,,, ,,,现任善仁(浙江)新质料科技有限公司首席手艺官CTO。。。。主要从事电子质料方面的研发和产品开发,,, ,,,在双光子质料、微复制、镶嵌式电容、燃料电池催化剂、及LCP软板等领域都有一定的效果;;;;;;共揭晓论文23篇,他引3千次。。。。2016年秋回国从事先进光刻胶的开发与工业化。。。。

报告人单位(中文):善仁(浙江)新质料科技有限公司

主理单位:8188cc威尼斯质料学院

联系人:高彦峰

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